Une idée hors-norme!

Un matin, la directrice du Brooklyn Museum avec lequel le groupe mène de nombreux projets a appelé le PDG de Chargeurs en disant « I have a quick question that is likely impossible but I just have to ask ». En effet, l’idée qu’elle avait en tête était incroyable : réaliser une fresque murale du photographe JR, l’un des plus célèbres artistes français, avec des produits écoresponsables tout en respectant la haute qualité de définition de l’image originale. Pour réaliser ce défi, le groupe Chargeurs à Paris a mobilisé le savoir-faire de sa filiale Senfa spécialisée dans l’impression sur textile et située en Alsace, en France. Immédiatement, les équipes alsaciennes ont trouvé le moyen de mettre à l’honneur l’artiste français et ses 20 années de carrière. La fresque a été conçue à partir du produit Domino particulièrement adapté pour les impressions en noir et blanc (d’où le nom « Domino »). Par le hasard des choses, l’installation monumentale de 16 mètres de hauteur, était destinée à être située sur le parc éponyme au produit utilisé par Senfa : le Domino Park de Williamsburg, à New York. Les équipes de Leach, autre filiale du groupe cette fois-ci située en Angleterre, sont parties à New-York pour installer en un temps record la toile : 4 jours seulement.

Cette murale en noir et blanc est le plus grand projet public de JR à ce jour dans cette ville. Surplombant la rivière East, elle reproduit des images de plus de 1 000 habitants de la ville. De Paris à New York en passant l’Alsace et l’Angleterre, Chargeurs réussit à mobiliser ses talents du monde entier pour réaliser l’impensable et soutenir les projets inspirants de ses partenaires qui façonnent le monde.

Chargeurs PCC et le Fashion Institute of Technology (FIT) s’associent dans le cadre d’un concours de création de robes de mariée

Chargeurs PCC Fashion Technologies a annoncé les gagnants du concours étudiant FIT intitulé « Redefining Fashion Technologies » (Redéfinir les technologies de la mode), un concours de design durable qui demandait aux étudiants de créer des robes de mariée en utilisant les entoilages écoresponsables de Chargeurs. Fern Mallis, créatrice de la Semaine de la mode de New York et membre du conseil d’administration de la Fondation FIT, Ken Downing, créatif visionnaire de la marque ‘American Dream et ancien Directeur de Style du grand magasin Neiman Marcus, Madison Blank, directrice de la boutique de prêt-à-porter de créateurs Saks Fifth Avenue, et Nancy Berger, éditrice de Cosmopolitan, ont été les juges du concours, aux côtés d’Angela Chan, directrice générale et présidente de Chargeurs PCC Fashion Technologies, qui a créé le concours dans la lignée de l’engagement continu de Chargeurs en faveur de l’éducation, de la réussite et de la durabilité dans le domaine de la mode.

« Former et apporter notre soutien à la prochaine génération de chefs de file de la mode est au cœur de la mission de Chargeurs », a déclaré Angela Chan. « Nous sommes très fiers de parrainer ce concours et nous félicitons les gagnants et tous les participants dont les créations mettent en évidence le rôle essentiel que jouent les entoilages écoresponsable dans la forme, la structure et la beauté des vêtements. Mes collègues et moi-même avons été honorés d’y participer et ravis de voir les étudiants faire preuve d’une telle créativité, d’une telle compétence et de telles réalisations ».

Il était demandé aux étudiants participant au concours de créer un vêtement de mariée portable en utilisant 95% de matériaux d’entoilage, des entoilages fusibles et/ou des empiècements poitrine comme principal matériau. Les entoilages sont généralement invisibles, mais le concours FIT les met en valeur en demandant aux étudiants de créer leurs vêtements quasi exclusivement à partir de ce produit. Chargeurs a fourni tous les matériaux d’entoilage, notamment des produits provenant de sa collection Sustainable 50 récemment lancée. Les créations de robes de mariée ont été jugées sur la base de critères relevant de la conception, de l’esthétique, de l’utilisation des entoilages, de la créativité, de la technicité et du bien-aller.

Le FIT, qui fait partie de l’Université d’État de New York, est depuis 75 ans leader dans le domaine de la formation professionnelle en art, design, affaires et technologie. Calvin Klein, Michael Kors, Reem Acra, Brian Atwood, Dennis Basso, Francisco Costa, Norma Kamali, Nanette Lepore, Bibhu Mohapatra, Ralph Rucci, John Bartlett et Michelle Smith font partie des anciens étudiants de renom de l’Institut. Parmi les autres anciens étudiants réputés, il convient de citer Leslie Blodgett, créateur de bareMinerals, Tony Chi, concepteur de restaurants dans le monde entier, et Nina Garcia, rédactrice en chef du magazine Elle.